Ik ben postdoctoraal onderzoeker in de Nanophotonics group, waar ik me richt op geavanceerde metrologie voor logische halfgeleidercircuits via golffrontregeling, in samenwerking met industri毛le partners. Mijn onderzoek heeft als doel het ontwikkelen van uiterst nauwkeurige overlay- (OVL) en uitlijnmetrologiemethoden op nanoschaal.
Eerder, tijdens mijn promotieonderzoek, lag mijn focus op computationele beeldvorming, ptychografie en physics-informed machine learning.